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真空磁控溅射法在玻璃镀膜中的应用

时间:2020-07-31 20:22来源:毕业论文
在众多镀膜加工工艺中磁控溅射技术应用领域最为广泛。磁控溅射技术能够实现高纯薄膜制备、薄膜高速沉积的质量等,而且在节能环保上也有着极大的优势。本文介绍了磁控溅射技术

摘要:普通玻璃难以控制太阳能的辐射,必须对玻璃表面进行处理,于是产生了多种玻璃镀膜方法,在众多镀膜加工工艺中磁控溅射技术应用领域最为广泛。磁控溅射技术能够实现高纯薄膜制备、薄膜高速沉积的质量等,而且在节能环保上也有着极大的优势。本文介绍了磁控溅射技术的生产工艺、流程以及相关的控制技术和设备组成,重点讲述了玻璃薄膜制备的方法、设备设计方法。53154

毕业论文关键词:镀膜玻璃,磁控溅射,镀膜工艺,设备 

Abstract:The common glass is difficult to control the solar radiation, to carry on processing to the surface of the glass, and produced a variety of glass coating methods, coating processing technology in many application fields of magnetron sputtering technology most widely. To achieve a high pure preparation of thin film, thin film deposition rate and quality of magnetron sputtering technology in energy saving and environmental protection, but also has a great advantage. This paper introduces the technology of magnetron sputtering production technology, processes and the related control technology and equipment, with emphasis on the design method of equipment, glass film preparation method.

Keywords:coated glass, magnetron, coating technology, equipment

目 录

1前言 5

1.1 溅射 5

1.2 溅射镀膜分类 5

1.2.1直流溅射 5

1.2.3射频溅射 5

1.2.4磁控溅射 5

1.2.5反应溅射 5

1.3 磁控溅射的优点 6

1.4 磁控溅射的发展 6

1.5 磁控溅射在玻璃镀膜的应用 6

2 磁控溅射工艺流程及工艺参数 7

2.1 基片清洗 7

2.2 抽真空 7

2.3 基片加热 7

2.4 氩气分压 8

2.5 溅射过程 8

3 系统组成及设计思路 9

3.1 真空系统 9

3.2 磁控溅射源 9

3.3 进气系统 10

3.4 膜厚测量系统 10

3.5 残余气体分析系统 10

3.6 冷水系统 10

3.7 控制系统 10

4 工艺过程 12

4.1 溅射功率对成膜速率的影响 12

4.2 溅射功率对薄膜质量的影响 13

4.3 气压对成膜速率的影响 13

4.4 气压对薄膜结合力的影响 14

4.5 薄膜均匀性分析 14

结 论 17

参考文献 18

致  谢 19

 1前言

1.1 溅射 

  溅射是通常是指气体正离子轰击物体使其表面原子从母体中溢出的一种现象。如果溢出的离子轰击阴极靶材将靶材的原子等粒子溅出沉积在阳极基板就会形成薄膜。所以利用溅射可以进行镀膜。 真空磁控溅射法在玻璃镀膜中的应用:http://www.lwfree.com/huaxue/lunwen_57220.html

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